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什么是类朗伯光刻？
类朗伯光刻（proximity lithography）是一种光刻技术，用于制造集成电路（IC），也称为半导体工艺。它是一种非接触光刻技术，用于在光刻胶上图案转移到硅片上。
在类朗伯光刻中，光刻胶涂覆在硅片上，并通过接触掩膜上的图案进行照射。由于存在接触或近距离接触，这种方法被称为"类"朗伯光刻。光通过接触掩膜，经过透镜被聚焦到光刻胶上，然后在暴露的地方化学反应固化。之后，未暴露的光刻胶被溶解除去，留下图案转移到硅片上，从而形成集成电路的结构。
类朗伯光刻具有高分辨率、快速、高生产效率的特点。然而，它也有一些限制，例如难以实现亚微米级别的分辨率以及制造超细结构的复杂性。因此，在近年来的半导体工艺中，类朗伯光刻逐渐被更先进的光刻技术，如极紫外光刻（EUV）、多光束光刻等所取代。
类朗伯光刻是一种微电子制造技术，利用紫外光在光刻胶层上进行图案的投影和转移，用于制造芯片和集成电路等微小器件。
与传统的光刻技术相比，类朗伯光刻具有更高的分辨率和更小的制造误差，能够实现更高密度的芯片制造。
其原理是利用光学系统将光束聚焦到极小的点上，然后通过控制光束的强度和位置来控制光刻胶的曝光量，从而实现精细的图案转移。类朗伯光刻是现代微电子制造中不可或缺的重要技术之一。
类朗伯光刻 (Lithography) 是一种用于制造集成电路和其他微米和纳米尺度结构的工艺技术。它是通过使用光敏材料和光刻胶，先在基片上涂覆一层光刻胶，并利用掩膜或光刻模板上的图案，使用紫外光照射到光刻胶上，然后进行显影和后续处理步骤，最终形成所需的微米和纳米结构。
在类朗伯光刻过程中，紫外光的波长通常为365纳米或193纳米。这些紫外光可以通过光学透镜和光刻机等设备进行聚焦和照射。光刻胶会发生光化学反应，被照射的区域会发生物理或化学上的改变，从而可以在显影步骤中溶解或保留。
类朗伯光刻技术是当今集成电路制造中最常用的工艺之一，它可以实现高分辨率、高精度的图案转移到基片上，为微电子和纳米技术的发展提供了基础。
制作护眼小作品？
打开ps，进入其编辑界面；
按ctrl+o，找到并选中准备好的背景素材，按打开；
将图片添加到ps中；
新建一个图层，添加一张有眼镜的书本图片，点缀一下背景；
新建一个图层，创建好手抄报的名称《爱护眼睛手抄报》；
分别在两个图层中创建两个不同的形状，将整张报纸分成左右两个版块；
输入左、右两个版的文字内容；
我们就制作好了一张爱护眼睛手抄报；
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